氫氣還原爐的性能：

　　氫氣還原爐的外觀：鋼板外殼，殼外為不銹鋼爐體，方管機(jī)架——滿(mǎn)足爐體高溫運(yùn)行條件下的承重、密封、部件運(yùn)動(dòng)等需求。

　　殼內(nèi)為保溫性材料，爐體為耐溫型材料——節(jié)約電能、滿(mǎn)足爐內(nèi)的額定溫度的保溫要求。

　　鉬絲組合為氣體保護(hù)下的電熱體——滿(mǎn)足爐內(nèi)燒結(jié)所需溫度。

　　180°回轉(zhuǎn)傳送滾輪和8米直行傳送帶——滿(mǎn)足成品運(yùn)送至成品臺(tái)面

　　可調(diào)全自動(dòng)PLC和行程開(kāi)關(guān)控制，多臺(tái)電動(dòng)機(jī)完成執(zhí)行動(dòng)作，觸摸屏顯示全部自動(dòng)控制并可執(zhí)行部分操控——滿(mǎn)足爐體全自動(dòng)運(yùn)行的技術(shù)要求。

　　電熱偶、溫控表、調(diào)控調(diào)壓器組合成為可調(diào)動(dòng)控溫系統(tǒng)——滿(mǎn)足爐內(nèi)溫度的可調(diào)自動(dòng)控制。

　　自動(dòng)推進(jìn)系統(tǒng)——滿(mǎn)足燒結(jié)過(guò)程不停爐、原料自動(dòng)進(jìn)爐，成品自動(dòng)出爐，連續(xù)燒結(jié)的運(yùn)行需求。

 

　　以下是氫氣還原爐的主要組成部分：

　　爐體：這是還原爐的核心部分，通常由耐高溫材料制成，能夠承受高溫和化學(xué)反應(yīng)的環(huán)境。爐體內(nèi)部設(shè)有加熱元件，用于提供必要的反應(yīng)溫度。

　　加熱系統(tǒng)：包括加熱元件和溫控系統(tǒng)。加熱元件可以是電阻絲、感應(yīng)線圈等，用于產(chǎn)生高溫。溫控系統(tǒng)則用于監(jiān)控和調(diào)節(jié)爐內(nèi)溫度，確保反應(yīng)在適宜的溫度下進(jìn)行。

　　氫氣供應(yīng)系統(tǒng)：包括氫氣儲(chǔ)罐、減壓閥、流量計(jì)和管道等，用于向爐內(nèi)提供穩(wěn)定的氫氣流量。氫氣在反應(yīng)中起到還原劑的作用，將金屬氧化物還原為金屬。

　　排氣系統(tǒng)：用于排出反應(yīng)過(guò)程中產(chǎn)生的廢氣，通常包括排氣管道、冷卻器和尾氣處理裝置等。排氣系統(tǒng)需要具備良好的密封性和安全性，以防止氫氣泄漏和爆炸。

　　控制系統(tǒng)：包括溫度控制器、壓力控制器和流量控制器等，用于監(jiān)控和調(diào)節(jié)還原爐的各項(xiàng)參數(shù)，確保反應(yīng)過(guò)程的安全和高效。

　　安全系統(tǒng)：包括各種傳感器和報(bào)警裝置，用于監(jiān)測(cè)爐內(nèi)的溫度、壓力和氣體濃度等，一旦發(fā)現(xiàn)異常情況，能夠及時(shí)報(bào)警并采取應(yīng)急措施。

　　冷卻系統(tǒng)：用于在反應(yīng)結(jié)束后快速冷卻爐體和產(chǎn)物，防止高溫對(duì)設(shè)備和產(chǎn)物造成損害。冷卻系統(tǒng)通常包括冷卻水循環(huán)系統(tǒng)或風(fēng)冷系統(tǒng)。

　　

　　氫氣還原爐創(chuàng)新特點(diǎn)：

　　全自動(dòng)連續(xù)運(yùn)行幾百~幾千個(gè)小時(shí)，連續(xù)工作，節(jié)約電能。

　　設(shè)備對(duì)爐內(nèi)提供N2/H2混合氣體保護(hù)。

　　高溫區(qū)長(zhǎng)達(dá)4米，zui高溫度可達(dá)到1650℃。

　　只需一人操作，即可完成生產(chǎn)全過(guò)程。